토륨

속성

토륨은 산화물 상태에서 알려진 모든 산화물 중 가장 높은 융점을 갖는

악티늄족 금속입니다.

용접 전극, 고온 내화물, 광학 소재 분야에서 사용되며,

방사성 물질에 해당해 관련 법령에 따른 허가 하에 취급됩니다.

속성 개요

토륨 속성

토륨 속성

핵심 스탯

산화물 융점

3,390°C

알려진 산화물 중 최고 수준

금속 융점

1,750°C

악티늄족 중 높은 편

밀도

11.7 g/cm³

납의 약 1.03배

주 핵종

Th-232

알파 방출, 반감기 약 140억 년

특성 요약

토륨은 은백색의 연질 악티늄족 금속입니다.

산화토륨은 알려진 산화물 중 가장 높은 융점을 가져 고온 내화물과 특수 세라믹 소재로 사용됩니다.

텅스텐에 소량 첨가하면 전자 방출 특성이 향상되어 아크 용접 전극에 활용됩니다.

방사성 물질에 해당하므로 취급·보관·운송은 관련 법령을 따릅니다.

최고 융점 산화물

전자 방출

고밀도

관리 대상 물질

물리적 특성

물리적 특성

순도 높은 토륨(Th)은 은백색의 면심입방 금속으로, 약 1,750°C의 융점과 11.7 g/cm³의 밀도를 가집니다. 악티늄족 금속 가운데 연성이 좋아 압연과 인발로 성형할 수 있으며, 상온에서 비교적 무르고 가공성이 양호합니다. 대기 중에서는 표면이 서서히 산화되어 회색에서 흑색으로 변색되고, 미분 상태에서는 발화 위험이 있어 취급에 주의가 필요합니다. 약한 방사성을 지닌 원소이므로 보관과 취급에 규제가 적용되며, 산업적으로는 이산화토륨을 텅스텐에 첨가한 아크 용접 전극 용도로 널리 쓰입니다.

높은 융점

1,750 °C

고온 전극과 발열 부품에 활용됩니다.

고밀도

11.7 g/cm³

차폐 및 고비중 부품에 유리합니다.

우수한 연성

면심입방(FCC)

압연·인발 등 냉간 성형이 가능합니다.

약한 방사성

Th-232

알파 붕괴 핵종으로 취급 규제가 적용됩니다.

기계적 속성

기계적 속성

고순도 토륨의 핵심 기계적 성질

고순도 토륨은 상온에서 면심입방 구조를 가지는 연질 금속으로, 상온에서 소성 변형이 가능합니다. 압연, 인발, 절삭 등 일반적인 금속 가공 공정을 적용할 수 있으며, 냉간 가공으로 강도를 높일 수 있습니다. 다만 강도와 경도 수준이 낮아 구조 부재로는 사용되지 않으며, 기계적 성질보다는 산화물의 고융점과 전자 방출 특성이 실제 활용의 근거가 됩니다. 가공 시에는 발화성과 분진 관리가 기계적 조건보다 우선합니다.

인장 강도

115–145 MPa

어닐링 상태 기준이며 냉간 가공으로

상승합니다.

탄성 계수

79 GPa

금속 중 낮은 편으로 하중 하 변형이

큽니다.

연신율

30–40%

상온에서 소성 변형이 가능한

연질 금속입니다.

경도

40–60 HV

순금속 기준이며 산소 함량에 따라

상승합니다.

가공 특성과 취급 조건

토륨은 연질 금속이어서 절삭, 압연, 인발 등 일반 가공이 가능하나, 실제 공정에서 제약이 되는 것은 기계적 성질이 아니라 취급 조건입니다. 미분말과 절삭 칩은 자연 발화성을 가지므로 불활성 분위기 또는 오일 하에서 보관하고, 건식 절삭 시 발화 방지 조치가 필요합니다. 연삭 공정에서 발생하는 분진은 흡입 시 내부 피폭으로 이어지므로 국소 배기와 밀폐 집진이 요구됩니다. 또한 붕괴 생성물이 축적되면서 감마선량이 시간에 따라 증가하므로, 장기 보관재는 보관 이력과 함께 관리합니다. 가공 잔여물과 폐기물은 방사성 폐기물 기준에 따라 처리합니다.

토륨은 연질 금속이어서 절삭, 압연, 인발 등 일반 가공이 가능하나, 실제 공정에서 제약이 되는 것은 기계적 성질이 아니라 취급 조건입니다. 미분말과 절삭 칩은 자연 발화성을 가지므로 불활성 분위기 또는 오일 하에서 보관하고, 건식 절삭 시 발화 방지 조치가 필요합니다. 연삭 공정에서 발생하는 분진은 흡입 시 내부 피폭으로 이어지므로 국소 배기와 밀폐 집진이 요구됩니다. 또한 붕괴 생성물이 축적되면서 감마선량이 시간에 따라 증가하므로, 장기 보관재는 보관 이력과 함께 관리합니다. 가공 잔여물과 폐기물은 방사성 폐기물 기준에 따라 처리합니다.

화학적 특성

화학적 특성

화학적 특성

토륨(Thorium)은 주기율표 악티늄족 금속으로, 대기 중에서 표면이 산화되며 벌크 상태에서는 비교적 안정하나 미분말 상태에서는 자연 발화성을 갖는 뚜렷한 형상 의존적 거동을 가집니다.


산화 거동과 발화 특성

토륨은 대기 중에서 표면이 서서히 산화되어 회색에서 흑색으로 변색됩니다. 이때 형성되는 산화막은 크롬의 산화 피막과 달리 치밀한 보호 작용을 하지 않아 산화가 점진적으로 진행되며, 고온에서는 산화 속도가 급격히 빨라집니다.


미분말과 절삭 칩은 상온 대기 중에서도 자연 발화할 수 있어, 불활성 분위기 또는 오일 하에서 보관하고 취급합니다. 발화한 토륨 화재에는 물이나 이산화탄소를 사용할 수 없으며, 금속 화재용 소화제를 적용합니다. 또한 고온에서 수소, 질소, 탄소와 반응해 각각 수소화물, 질화물, 탄화물을 형성하므로, 열처리는 진공 또는 아르곤 분위기에서 수행합니다.


내식성과 화학적 안정성

토륨은 물과 대기 중에서 벌크 상태로는 비교적 안정하며, 알칼리 용액에서도 큰 반응을 보이지 않습니다. 염산에는 용해되나 표면에 흑색 잔류물이 남으며, 소량의 불화물 이온이 존재하면 용해가 촉진됩니다.


다만 질산과 황산 등에 대해서는 부동태 거동을 보여 표면에서 반응이 억제되며, 왕수에도 쉽게 용해되지 않습니다. 매체에 따라 용해 거동이 크게 달라지므로, 화학 공정 적용 시에는 사전 시험이 필요합니다.


주요 화합물

산화 상태는 +2에서 +4까지 가능하며 +4가 압도적으로 안정적입니다.

· 산화토륨(ThO₂) — 융점 3,390 °C의 고온 내화물 소재

· 이산화토륨 첨가 텅스텐 — 아크 용접 전극의 대표 조성

· 불화토륨(ThF₄) — 적외선 광학 코팅 소재

토륨(Thorium)은 주기율표 악티늄족 금속으로, 대기 중에서 표면이 산화되며 벌크 상태에서는 비교적 안정하나 미분말 상태에서는 자연 발화성을 갖는 뚜렷한 형상 의존적 거동을 가집니다.


산화 거동과 발화 특성

토륨은 대기 중에서 표면이 서서히 산화되어 회색에서 흑색으로 변색됩니다. 이때 형성되는 산화막은 크롬의 산화 피막과 달리 치밀한 보호 작용을 하지 않아 산화가 점진적으로 진행되며, 고온에서는 산화 속도가 급격히 빨라집니다.


미분말과 절삭 칩은 상온 대기 중에서도 자연 발화할 수 있어, 불활성 분위기 또는 오일 하에서 보관하고 취급합니다. 발화한 토륨 화재에는 물이나 이산화탄소를 사용할 수 없으며, 금속 화재용 소화제를 적용합니다. 또한 고온에서 수소, 질소, 탄소와 반응해 각각 수소화물, 질화물, 탄화물을 형성하므로, 열처리는 진공 또는 아르곤 분위기에서 수행합니다.


내식성과 화학적 안정성

토륨은 물과 대기 중에서 벌크 상태로는 비교적 안정하며, 알칼리 용액에서도 큰 반응을 보이지 않습니다. 염산에는 용해되나 표면에 흑색 잔류물이 남으며, 소량의 불화물 이온이 존재하면 용해가 촉진됩니다.


다만 질산과 황산 등에 대해서는 부동태 거동을 보여 표면에서 반응이 억제되며, 왕수에도 쉽게 용해되지 않습니다. 매체에 따라 용해 거동이 크게 달라지므로, 화학 공정 적용 시에는 사전 시험이 필요합니다.


주요 화합물

산화 상태는 +2에서 +4까지 가능하며 +4가 압도적으로 안정적입니다.

· 산화토륨(ThO₂) — 융점 3,390 °C의 고온 내화물 소재

· 이산화토륨 첨가 텅스텐 — 아크 용접 전극의 대표 조성

· 불화토륨(ThF₄) — 적외선 광학 코팅 소재

제품 형태

제품 형태

제품 형태

판재 (Sheet/Plate)

히터, 반사판, 열차폐판 등 다양한 공정 부품 제작에 사용됩니다.

봉재 (Rod/Bar)

구조 부품, 전극, 고온 부품 제작에 적합한 형태입니다.

선재 (Wire)

필라멘트, 전극선, 고온 와이어 등으로 사용됩니다.

튜브 (Tube)

열처리 장비, 고온 부품, 유리 용융 전극 등에 사용됩니다.

도가니 (Crucible)

고온 용해, 증기 증류, 정제 공정의 용기 및 내부 부품에 사용됩니다.

스퍼터링 타겟

반도체·디스플레이 박막 증착 공정에서 핵심 소재로 사용됩니다.

적용 산업

적용 산업

적용 산업

용접·전극

토륨 텅스텐 전극의 첨가 성분으로 아크

착화성을 높입니다.

고온 내화물

산화토륨 도가니, 내열 세라믹 소재로

사용됩니다.

광학

고굴절·저분산 광학 유리의 첨가 성분으로

사용됩니다.

분석·표준물질

방사능 측정용 표준물질 및 분석 시료로

사용됩니다.

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