석유화학 플랜트 전경

탄탈륨

속성

탄탈륨은 높은 융점과 탁월한 내식성을 갖춘 고융점 금속입니다.

전자, 화학 플랜트, 의료, 항공우주 산업 등 다양한 분야에서 핵심 소재로 활용됩니다.

속성 개요

탄탈륨 속성

탄탈륨 속성

핵심 스탯

융점

3,017°C

금속 중 세 번째로 높음

밀도

16.65 g/cm³

고밀도 부품에 적합

내식성

백금급

대부분의 산에 안정

열팽창계수

6.3 μmm.K

온도 변화에 치수 변화 적음

특성 요약

탄탈륨은 고융점·내식성·연성을 함께 갖춘 대표적인 고성능 금속입니다.

치밀한 산화막을 형성해 대부분의 산성 환경에서 안정적이며,

고융점 금속으로는 이례적으로 연성이 높아 박판·와이어 등

복잡한 형상 가공에 적합합니다. 인체 반응성이 낮아 의료용 소재로도 활용됩니다.

고융점

내식성

연성

생체 적합성

물리적 특성

물리적 특성

순도 높은 탄탈륨(Ta)은 회백색의 난용성 금속으로, 금속 중 세 번째로 높은 녹는점(약 3,017°C)과 끓는점(약 5,458°C)을 가집니다. 극초고온 환경에서도

형태가 변하지 않는 뛰어난 열적 안정성을 자랑하며, 16.65 g/cm³ 수준의 높은 밀도를 가집니다.

표면에 치밀하고 안정적인 산화막(Ta₂O₅)을 형성해, 불산과 발연황산을 제외한 대부분의 산성 환경에서 백금에 준하는 내식성을 나타냅니다. 열팽창 계수가

낮아 온도 변화에 따른 치수 변화가 적으며, 이 산화막의 유전 특성은 소형·고용량 커패시터를 가능하게 합니다.

고융점 금속으로는 이례적으로 연성이 우수해 상온에서도 냉간 가공이 가능하며, 박판·와이어·심가공 부품으로 성형됩니다. 또한 인체 조직과의 반응성이 낮아

생체 적합성이 뛰어납니다. 이러한 복합적인 물리·화학적 특성 덕분에 전자, 화학 플랜트, 의료, 항공우주 산업의 핵심 소재로 활용됩니다.

순도 높은 탄탈륨(Ta)은 회백색의 난용성 금속으로, 금속 중 세 번째로 높은 녹는점(약 3,017°C)과 끓는점(약 5,458°C)을 가집니다. 극초고온 환경에서도

형태가 변하지 않는 뛰어난 열적 안정성을 자랑하며, 16.65 g/cm³ 수준의 높은 밀도를 가집니다.

표면에 치밀하고 안정적인 산화막(Ta₂O₅)을 형성해, 불산과 발연황산을 제외한 대부분의 산성 환경에서 백금에 준하는 내식성을 나타냅니다. 열팽창 계수가

낮아 온도 변화에 따른 치수 변화가 적으며, 이 산화막의 유전 특성은 소형·고용량 커패시터를 가능하게 합니다.

고융점 금속으로는 이례적으로 연성이 우수해 상온에서도 냉간 가공이 가능하며, 박판·와이어·심가공 부품으로 성형됩니다. 또한 인체 조직과의 반응성이 낮아

생체 적합성이 뛰어납니다. 이러한 복합적인 물리·화학적 특성 덕분에 전자, 화학 플랜트, 의료, 항공우주 산업의 핵심 소재로 활용됩니다.

연성·가공성

냉간가공

상온 성형이 가능해 박판·와이어 등 정밀 가공에 적합합니다.

저열팽창

6.3 μm/m·K

온도 변화에 따른 치수 변화가 적어 정밀 구조물에 적합합니다.

내식성

부동태 산화막

치밀한 산화막을 형성해 대부분의

산성 환경에서 안정적입니다.

생체 적합성

무독성

인체 조직 반응성이 낮아 임플란트 및 골 고정재에 사용됩니다.

기계적 속성

기계적 속성

고순도 탄탈륨의 핵심 기계적 성질

고순도 탄탈륨은 고융점 금속으로는 이례적으로 우수한 연성을 지녀, 상온에서도 취성 없이 냉간 가공이 가능합니다. 압연·인발·심가공을 통해 박판, 와이어, 복잡한 형상의 부품으로

성형할 수 있습니다.

강도는 순도와 가공 이력에 따라 조절되며, 냉간 가공으로 강도를 높이거나 재결정 어닐링으로 연성을 회복시킬 수 있습니다. 낮은 열팽창 계수와 결합해 정밀 부품의 치수 안정성에도

유리합니다.

인장 강도

200-350 MPa

어닐링 상태 기준이며 냉간 가공으로 상향

됩니다.

탄성 계수

186 GPa

하중에 유연하게 대응해 성형성이 우수합니다.

연신율

20-40%

상온에서 취성 없이 크게 변형되어 심가공에

적합합니다.

경도

90-200 HV

어닐링 상태에서 연질이며 가공에 따라 상승

합니다.

W 판재의 광학 현미경 사진 (응력 제거됨)

W 판재의 광학 현미경 사진 (재결정)

W-La₂O₃ 합금 판재의 광학 현미경 사진

재결정 거동과 가공 경화

탄탈륨은 냉간 가공률이 높아질수록 강도가 상승하고 연성이 감소합니다. 재결정 어닐링을 통해 연성을 회복시킬 수 있어, 가공률과 어닐링 조건의 조합으로 용도에 맞는 강도-연성 균형을 확보합니다.

결정립 크기는 성형성과 표면 품질을 좌우합니다. 미세하고 균일한 결정립 조직은 심가공 시 표면 거칠기 발생을 억제해 안정적인 성형 결과를 제공합니다.

탄탈륨은 냉간 가공률이 높아질수록 강도가 상승하고 연성이 감소합니다. 재결정 어닐링을 통해 연성을 회복시킬 수 있어, 가공률과 어닐링 조건의 조합으로 용도에 맞는 강도-연성 균형을 확보합니다.

결정립 크기는 성형성과 표면 품질을 좌우합니다. 미세하고 균일한 결정립 조직은 심가공 시 표면 거칠기 발생을 억제해 안정적인 성형 결과를 제공합니다.

화학적 특성

화학적 특성

화학적 특성

탄탈륨(Tantalum)은 주기율표 5족 전이 금속으로, 표면에 형성되는 치밀한 산화막 덕분에 상온에서 화학적으로 매우 안정적입니다.


산화 반응 및 고온 특성

상온의 공기 중에서 두께 수 나노미터의 치밀한 오산화이탄탈륨(Ta₂O₅) 피막이 형성되어 내부를 보호합니다. 이 피막은 자기 회복성이 있어 손상되어도 즉시 재생됩니다.

약 300°C 이상에서는 산화막이 두꺼워지기 시작하고, 500°C 이상에서는 산화가 급격히 진행됩니다. 또한 고온에서 수소, 질소, 산소를 쉽게 흡수해 취화(embrittlement)가

발생하므로, 고온 가공 및 열처리 시에는 반드시 고진공 또는 불활성 가스 분위기를 조성해야 합니다.

뛰어난 내식성

염산, 질산, 황산, 왕수 등 대부분의 산에 대해 상온은 물론 고온에서도 거의 침식되지 않아, 백금에 준하는 내식성을 나타냅니다. 이러한 특성으로 화학 플랜트의 열교환기,

반응기 라이닝 소재로 사용됩니다. 다만 불산(HF), 발연황산, 그리고 알칼리 용융물에는 부식되므로 해당 환경에서는 사용할 수 없습니다.

주요 화합물

산화 상태는 −3에서 +5까지 가능하며 +5가가 가장 안정적입니다.

· 오산화이탄탈륨(Ta₂O₅) — 유전 특성이 우수해 커패시터 유전체 및 광학 코팅 소재로 사용

· 탄화탄탈륨(TaC) — 융점 약 3,880°C의 초고융점 세라믹으로, 초경합금의 결정립 성장 억제제 및 초내열 코팅에 사용

· 질화탄탈륨(TaN) — 반도체 배선의 확산 방지막 및 박막 저항체로 사용

탄탈륨(Tantalum)은 주기율표 5족 전이 금속으로, 표면에 형성되는 치밀한 산화막 덕분에 상온에서 화학적으로 매우 안정적입니다.


산화 반응 및 고온 특성

상온의 공기 중에서 두께 수 나노미터의 치밀한 오산화이탄탈륨(Ta₂O₅) 피막이 형성되어 내부를 보호합니다. 이 피막은 자기 회복성이 있어 손상되어도 즉시 재생됩니다.

약 300°C 이상에서는 산화막이 두꺼워지기 시작하고, 500°C 이상에서는 산화가 급격히 진행됩니다. 또한 고온에서 수소, 질소, 산소를 쉽게 흡수해 취화(embrittlement)가

발생하므로, 고온 가공 및 열처리 시에는 반드시 고진공 또는 불활성 가스 분위기를 조성해야 합니다.

뛰어난 내식성

염산, 질산, 황산, 왕수 등 대부분의 산에 대해 상온은 물론 고온에서도 거의 침식되지 않아, 백금에 준하는 내식성을 나타냅니다. 이러한 특성으로 화학 플랜트의 열교환기,

반응기 라이닝 소재로 사용됩니다. 다만 불산(HF), 발연황산, 그리고 알칼리 용융물에는 부식되므로 해당 환경에서는 사용할 수 없습니다.

주요 화합물

산화 상태는 −3에서 +5까지 가능하며 +5가가 가장 안정적입니다.

· 오산화이탄탈륨(Ta₂O₅) — 유전 특성이 우수해 커패시터 유전체 및 광학 코팅 소재로 사용

· 탄화탄탈륨(TaC) — 융점 약 3,880°C의 초고융점 세라믹으로, 초경합금의 결정립 성장 억제제 및 초내열 코팅에 사용

· 질화탄탈륨(TaN) — 반도체 배선의 확산 방지막 및 박막 저항체로 사용

제품 형태

제품 형태

제품 형태

판재 (Sheet/Plate)

히터, 반사판, 열차폐판 등 다양한 공정 부품 제작에 사용됩니다.

봉재 (Rod/Bar)

구조 부품, 전극, 고온 부품 제작에 적합한 형태입니다.

선재 (Wire)

필라멘트, 전극선, 고온 와이어 등으로 사용됩니다.

튜브 (Tube)

열처리 장비, 고온 부품, 유리 용융 전극 등에 사용됩니다.

도가니 (Crucible)

고온 용해, 증기 증류, 정제 공정의 용기 및 내부 부품에 사용됩니다.

스퍼터링 타겟

반도체·디스플레이 박막 증착 공정에서 핵심 소재로 사용됩니다.

적용 산업

적용 산업

적용 산업

반도체·디스플레이

게이트 전극, 배선, 스퍼터링 타겟 등에 사용됩니다.

조명·전자

필라멘트, 전자총, 접점 소재 등에 사용됩니다.

의료

X선 양극, 방사선 차폐, 콜리메이터 등에 사용됩니다.

항공우주

로켓 노즐, 밸러스트 웨이트, 내열 부품 등에 사용됩니다.

에너지·원자력

플라즈마 대향 부품, 차폐재 등에 사용됩니다.

초경합금·공구

절삭 공구, 금형, 내마모 부품 등에 사용됩니다.

국방·군수

관통자, 고밀도 탄심 등에 사용됩니다.

자동차

크랭크샤프트 밸런스, 방진 웨이트 등에 사용됩니다.

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