속성

은은 모든 금속 중 가장 높은 전기 전도도와 열 전도도를 지니며,

가시광 영역에서 가장 높은 반사율을 갖는 백색 금속입니다.

전기 접점, 브레이징 합금, 전자 페이스트 분야에서 활용됩니다.

속성 개요

은 속성

은 속성

핵심 스탯

전기 전도도

63.0×10⁶ S/m

모든 금속 중 최고 수준

열 전도도

429 W/m·K

모든 금속 중 최고 수준

융점

961.8°C

브레이징 온도 영역

밀도

10.49 g/cm³

텅스텐의 약 절반 수준

특성 요약

은은 백색의 연질 금속으로 전기와 열을 가장 잘 전달하는 금속입니다.

가시광 반사율이 약 95%로 광학 반사막 소재에도 사용됩니다.

연성과 전성이 뛰어나 박판·와이어 가공이 자유롭습니다.

전기 접점, 브레이징, 전자 페이스트의 핵심 소재입니다.

최고 전도도

최고 열전도

고반사율

우수한 연성

물리적 특성

물리적 특성

순도 높은 은(Ag)은 백색의 연질 금속으로, 전기 전도도와 열 전도도가 모든 금속 중 가장 높습니다. 가시광 영역에서 최고 수준의 반사율을 지녀 광학 반사막에도 사용됩니다. 면심입방 구조로 상온 가공성이 뛰어나 극박 포일과 미세 와이어 성형이 가능합니다. 대기 중에서는 산화되지 않으나 황화수소와 반응해 표면이 흑변하므로, 접점 용도에서는 표면 관리가 필요합니다. 전기 접점, 브레이징, 전자 페이스트, 광학 코팅 분야에 활용됩니다.

순도 높은 은(Ag)은 백색의 연질 금속으로, 전기 전도도와 열 전도도가 모든 금속 중 가장 높습니다. 가시광 영역에서 최고 수준의 반사율을 지녀 광학 반사막에도 사용됩니다. 면심입방 구조로 상온 가공성이 뛰어나 극박 포일과 미세 와이어 성형이 가능합니다. 대기 중에서는 산화되지 않으나 황화수소와 반응해 표면이 흑변하므로, 접점 용도에서는 표면 관리가 필요합니다. 전기 접점, 브레이징, 전자 페이스트, 광학 코팅 분야에 활용됩니다.

최고 전기 전도도

63.0×10⁶ S/m

접점 저항이 낮아 개폐 손실이 적습니다.

최고 열 전도도

429 W/m·K

개폐 시 발생하는 열을 빠르게 분산시킵니다.

최고 반사율

약 95%

가시광 반사막과 저방사 코팅에 적용됩니다.

우수한 전성

연신율 40–50%

극박 포일과 미세 와이어 성형이 가능합니다.

기계적 속성

기계적 속성

고순도 은의 핵심 기계적 성질

고순도 은은 면심입방 구조의 연질 금속으로, 금 다음으로 높은 전성과 연성을 지닙니다. 압연으로 극박 포일, 인발로 미세 와이어 성형이 가능하며 상온 가공에 제약이 없습니다. 다만 순은은 강도와 경도가 낮고 접점 개폐 시 아크에 의한 침식과 용착이 발생하므로, 실제 전기 접점에는 텅스텐, 니켈, 산화주석 등을 복합한 소재로 사용됩니다.

인장 강도

140–170 MPa

어닐링 상태 기준이며 냉간 가공으로 상승합니다.

탄성 계수

83 GPa

연질로 하중 하 변형이 큰 편입니다.

연신율

40–50%

금 다음으로 높은 전성을 가집니다.

경도

25–30 HV

어닐링 상태 기준이며 순금속 중 낮은 편입니다.

가공 특성과 접점 소재 설계

은은 상온 가공에 제약이 없어 포일, 와이어, 스트립 등 다양한 형태로 성형됩니다. 다만 순은 단독으로는 접점 수명이 짧아, 용도별로 복합 소재가 사용됩니다. 은텅스텐은 텅스텐의 아크 침식 저항과 은의 전도도를 결합해 고전압 차단기에 적용되며, 은니켈은 중저전류 릴레이에, 은산화주석은 무카드뮴 접점으로 사용됩니다. 접점 소재 선정은 전류 용량, 개폐 빈도, 용착 위험도에 따라 결정됩니다.

은은 상온 가공에 제약이 없어 포일, 와이어, 스트립 등 다양한 형태로 성형됩니다. 다만 순은 단독으로는 접점 수명이 짧아, 용도별로 복합 소재가 사용됩니다. 은텅스텐은 텅스텐의 아크 침식 저항과 은의 전도도를 결합해 고전압 차단기에 적용되며, 은니켈은 중저전류 릴레이에, 은산화주석은 무카드뮴 접점으로 사용됩니다. 접점 소재 선정은 전류 용량, 개폐 빈도, 용착 위험도에 따라 결정됩니다.

화학적 특성

화학적 특성

화학적 특성

은(Silver)은 주기율표 11족 전이 금속으로, 대기 중에서 산화되지 않는 반면 미량의 황 화합물과는 쉽게 반응해 표면이 흑변하는 선택적 반응성을 가집니다.


변색과 표면 거동

은은 상온과 고온 대기 중에서 산화막을 형성하지 않아 금속 광택을 유지합니다. 다만 대기 중 황화수소와 반응해 표면에 황화은(Ag₂S) 피막을 형성하며, 흑갈색으로 변색됩니다.


변색은 산화가 아닌 황화 반응이며, 피막이 두꺼워지면 접촉 저항이 상승해 전기 접점 성능에 영향을 줍니다. 이 때문에 접점 용도에서는 로듐·금 도금이나 밀폐 구조를 적용합니다. 또한 습기와 전위차가 있는 환경에서는 은이 절연층을 따라 이동해 단락을 유발할 수 있으므로, 인접 도체 간격 설계 시 고려가 필요합니다.


내식성과 화학적 안정성

은은 물, 대기, 알칼리 용액에서 안정적이며 대부분의 유기산에도 반응하지 않습니다. 염산과 묽은 황산에도 거의 침식되지 않습니다.


다만 질산에는 쉽게 용해되며, 뜨거운 농황산과 시안화물 용액에도 용해됩니다. 황 화합물이 존재하는 환경에서는 농도와 무관하게 변색이 진행되므로 사용 환경 확인이 필요합니다.


주요 화합물

산화 상태는 +1에서 +3까지 가능하며 +1이 가장 안정적입니다.

· 질산은(AgNO₃) — 은 도금 및 전자 페이스트 제조의 기본 원료

· 산화은(Ag₂O) — 산화은 전지 및 촉매 소재

· 황화은(Ag₂S) — 대기 변색의 원인 물질

은(Silver)은 주기율표 11족 전이 금속으로, 대기 중에서 산화되지 않는 반면 미량의 황 화합물과는 쉽게 반응해 표면이 흑변하는 선택적 반응성을 가집니다.


변색과 표면 거동

은은 상온과 고온 대기 중에서 산화막을 형성하지 않아 금속 광택을 유지합니다. 다만 대기 중 황화수소와 반응해 표면에 황화은(Ag₂S) 피막을 형성하며, 흑갈색으로 변색됩니다.


변색은 산화가 아닌 황화 반응이며, 피막이 두꺼워지면 접촉 저항이 상승해 전기 접점 성능에 영향을 줍니다. 이 때문에 접점 용도에서는 로듐·금 도금이나 밀폐 구조를 적용합니다. 또한 습기와 전위차가 있는 환경에서는 은이 절연층을 따라 이동해 단락을 유발할 수 있으므로, 인접 도체 간격 설계 시 고려가 필요합니다.


내식성과 화학적 안정성

은은 물, 대기, 알칼리 용액에서 안정적이며 대부분의 유기산에도 반응하지 않습니다. 염산과 묽은 황산에도 거의 침식되지 않습니다.


다만 질산에는 쉽게 용해되며, 뜨거운 농황산과 시안화물 용액에도 용해됩니다. 황 화합물이 존재하는 환경에서는 농도와 무관하게 변색이 진행되므로 사용 환경 확인이 필요합니다.


주요 화합물

산화 상태는 +1에서 +3까지 가능하며 +1이 가장 안정적입니다.

· 질산은(AgNO₃) — 은 도금 및 전자 페이스트 제조의 기본 원료

· 산화은(Ag₂O) — 산화은 전지 및 촉매 소재

· 황화은(Ag₂S) — 대기 변색의 원인 물질

제품 형태

제품 형태

제품 형태

판재 (Sheet/Plate)

히터, 반사판, 열차폐판 등 다양한 공정 부품 제작에 사용됩니다.

봉재 (Rod/Bar)

구조 부품, 전극, 고온 부품 제작에 적합한 형태입니다.

선재 (Wire)

필라멘트, 전극선, 고온 와이어 등으로 사용됩니다.

튜브 (Tube)

열처리 장비, 고온 부품, 유리 용융 전극 등에 사용됩니다.

도가니 (Crucible)

고온 용해, 증기 증류, 정제 공정의 용기 및 내부 부품에 사용됩니다.

스퍼터링 타겟

반도체·디스플레이 박막 증착 공정에서 핵심 소재로 사용됩니다.

적용 산업

적용 산업

적용 산업

전기 접점

차단기, 개폐기, 릴레이 접점 소재로 사용됩니다.

전자·반도체

전도성 페이스트, 본딩 와이어 소재로 사용됩니다.

브레이징

은납 합금으로 이종 금속 접합에 사용됩니다.

태양광

태양전지 전극 페이스트 소재로 사용됩니다.

광학·코팅

반사막, 저방사 유리 코팅에 사용됩니다.

촉매·화학

에틸렌옥사이드 제조 촉매로 사용됩니다.

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